+8613140018814
উচ্চ বিশুদ্ধতা বোরন লক্ষ্যমাত্রা
video
উচ্চ বিশুদ্ধতা বোরন লক্ষ্যমাত্রা

উচ্চ বিশুদ্ধতা বোরন লক্ষ্যমাত্রা

উচ্চ বিশুদ্ধতা বোরন লক্ষ্য বৈশিষ্ট্য এবং প্রয়োগ আবরণ লক্ষ্য হল একটি স্পটারিং উত্স যা ম্যাগনেট্রন স্পাটারিং, মাল্টি-আর্ক আয়ন প্লেটিং বা উপযুক্ত প্রযুক্তিগত অবস্থার অধীনে অন্যান্য ধরনের আবরণ সিস্টেমের মাধ্যমে সাবস্ট্রেটে বিভিন্ন কার্যকরী ফিল্ম তৈরি করে। উচ্চ বিশুদ্ধতা বিশুদ্ধতা...
অনুসন্ধান পাঠান
Product Details ofউচ্চ বিশুদ্ধতা বোরন লক্ষ্যমাত্রা

উচ্চ বিশুদ্ধতা বোরন লক্ষ্য বৈশিষ্ট্য এবং অ্যাপ্লিকেশন

আবরণ টার্গেট হল একটি স্পটারিং উৎস যা ম্যাগনেট্রন স্পুটারিং, মাল্টি-আর্ক আয়ন প্লেটিং বা উপযুক্ত প্রযুক্তিগত অবস্থার অধীনে অন্যান্য ধরনের আবরণ সিস্টেমের মাধ্যমে সাবস্ট্রেটে বিভিন্ন কার্যকরী ফিল্ম তৈরি করে। উচ্চ বিশুদ্ধতা বিশুদ্ধতা বোরন লক্ষ্য ফিল্ম নির্মাণের জন্য ব্যবহৃত একটি উপাদান। এটি পাউডার ধাতুবিদ্যা প্রক্রিয়া বা ভ্যাকুয়াম আর্ক গলানোর মাধ্যমে বোরাইড উপকরণ থেকে উত্পাদিত হয়। বোরন টার্গেটগুলির চমৎকার বৈশিষ্ট্য রয়েছে যেমন উচ্চ প্রক্রিয়াযোগ্যতা, উচ্চ তাপীয় স্থিতিশীলতা, উচ্চ ঘনত্ব, ভাল জারা প্রতিরোধ, উচ্চ যান্ত্রিক শক্তি, উচ্চ আবরণের গুণমান, পরিধান প্রতিরোধ ক্ষমতা এবং দীর্ঘ পরিষেবা জীবন। উচ্চ বিশুদ্ধতা বোরন টার্গেটগুলি মূলত বিভিন্ন কার্যকরী ফিল্ম তৈরি করতে ব্যবহৃত হয়, যেমন হার্ড আবরণ, চৌম্বকীয় ফিল্ম, অপটিক্যাল ফিল্ম, অ্যান্টি-রিফ্লেকশন ফিল্ম ইত্যাদি, ইলেকট্রনিক ডিভাইস, সেমিকন্ডাক্টর চিপ, সৌর কোষ, অপটিক্যাল ডিভাইস এবং অন্যান্য উচ্চ- গ্রেড আলংকারিক সরবরাহ

উচ্চ বিশুদ্ধতা বোরন লক্ষ্য নির্দিষ্টকরণ:

উপাদান

বোরন(বি)

প্রযুক্তি

হট আইসোস্ট্যাটিক প্রেসিং, গ্রেইন রিফাইনমেন্ট, সিন্টারিং, ফরজিং, অ্যানিলিং

বিশুদ্ধতা

99-99.99%

আকার

ডিস্ক (480 মিমি এর চেয়ে কম বা সমান, 1 মিমি এর চেয়ে বড় বা সমান বেধ)

ঘনত্ব

2.34 গ্রাম/সেমি3

পৃষ্ঠতল

পালিশ, ক্ষার পরিষ্কার, নাকাল, কালো অক্সাইড

ডেলিভারি সময় 7-10 দিন

সার্টিফিকেশন

ISO-9001

উচ্চ বিশুদ্ধতা বোরন টার্গেট ছবি

995 Boron Sputtering Target

Boron Target

গরম ট্যাগ: উচ্চ বিশুদ্ধতা বোরন লক্ষ্য, সরবরাহকারী, নির্মাতারা, কারখানা, কাস্টমাইজড, পাইকারি, মূল্য, উদ্ধৃতি, বিক্রয়ের জন্য

অনুসন্ধান পাঠান

(0/10)

clearall