টাইটানিয়াম সিলিকন স্পুটার টার্গেট
টাইটানিয়াম সিলিকন স্পটার টার্গেট বর্ণনা
ম্যাগনেট্রন স্পুটারিং আবরণ হল একটি নতুন ধরণের ভৌত বাষ্প আবরণ পদ্ধতি, যা লেপা হওয়া উপাদানের উপর ইলেকট্রন নির্গত এবং ফোকাস করার জন্য একটি ইলেক্ট্রন বন্দুক সিস্টেম ব্যবহার করে, যাতে স্পুটারড পরমাণুগুলি ভরবেগ রূপান্তরের নীতি অনুসরণ করে, যাতে উপাদানটির উচ্চতর যান্ত্রিকতা থাকে। বৈশিষ্ট্য ধাতুপট্টাবৃত করা উপাদান একটি sputtering লক্ষ্য বলা হয়, যা প্রধানত ধাতু, সংকর এবং সিরামিক যৌগ অন্তর্ভুক্ত. টাইটানিয়াম সিলিকন স্পুটার টার্গেটকে প্ল্যানার টার্গেট, আর্ক টার্গেট, নলাকার টার্গেট এবং টিউবুলার টার্গেটে ভাগ করা যায়। এটি প্রায়ই পাউডার ধাতুবিদ্যা প্রক্রিয়া দ্বারা উত্পাদিত হয় এবং চমৎকার শারীরিক এবং রাসায়নিক বৈশিষ্ট্য আছে। টাইটানিয়াম সিলিকন স্পাটার টার্গেট হল নাইট্রাইড হার্ড উপাদান স্তরের নিখুঁত সমন্বয়, সিলিকন উচ্চ জারণ প্রতিরোধের গ্যারান্টি দেয় এবং টাইটানিয়াম ব্যতিক্রমী কঠোরতা এবং পরিধান প্রতিরোধের প্রদান করে। টাইটানিয়াম সিলিকন স্পুটার টার্গেটগুলি পাতলা ফিল্ম ডিপোজিশন, কাচ শিল্প, ভ্যাকুয়াম আবরণ, সেমিকন্ডাক্টর শিল্প, ইলেকট্রনিক্স শিল্প, ম্যাগনেট্রন স্পুটারিং প্রযুক্তি এবং আলংকারিক আবরণ শিল্পে ব্যাপকভাবে ব্যবহৃত হয়।
টাইটানিয়াম সিলিকন স্পুটার টার্গেট স্পেসিফিকেশন:
|
শ্রেণী |
Ti85Si15, Ti80Si20, Ti75Si25, Ti70Si30, ইত্যাদি। |
|
প্রযুক্তি |
হট আইসোস্ট্যাটিক প্রেসিং, ওয়েল্ডিং, সিন্টারিং, ফরজিং, অ্যানিলিং |
|
বিশুদ্ধতা |
99.8 শতাংশ |
|
পুরুত্ব |
3মিমি-30মিমি |
|
দৈর্ঘ্য |
10মিমি-2000মিমি |
|
বৃত্তাকার ব্যাস |
50-100মিমি |
|
ঘনত্ব |
4.35 গ্রাম/সেমি3 |
|
টাইপ |
প্ল্যানার, টিউব, ডিস্ক, নলাকার |
|
ডেলিভারি সময় |
15-20 দিন |
|
পৃষ্ঠতল |
পালিশ, ক্ষার পরিষ্কার, নাকাল, কালো অক্সাইড, ইত্যাদি। |
|
সার্টিফিকেশন |
ISO-9001 |
টাইটানিয়াম সিলিকন স্পটার টার্গেট ছবি:


গরম ট্যাগ: টাইটানিয়াম সিলিকন স্পটার লক্ষ্য, সরবরাহকারী, প্রস্তুতকারক, কারখানা, কাস্টমাইজড, পাইকারি, মূল্য, উদ্ধৃতি, বিক্রয়ের জন্য
অনুসন্ধান পাঠান
