+8613140018814
টাংস্টেন রাউন্ড স্পুটারিং টার্গেট
video
টাংস্টেন রাউন্ড স্পুটারিং টার্গেট

টাংস্টেন রাউন্ড স্পুটারিং টার্গেট

টাংস্টেন রাউন্ড স্পুটারিং টার্গেট বর্ণনা এবং প্রয়োগ লক্ষ্য ম্যাগনেট্রন স্পাটারিং প্রযুক্তির জন্য অপরিহার্য উপকরণগুলির মধ্যে একটি, এবং লক্ষ্যের কর্মক্ষমতা কমবেশি জমা ফিল্মের কার্যকারিতা এবং গুণমান নির্ধারণ করে। টাংস্টেন রাউন্ড স্পুটারিং টার্গেট আছে...
অনুসন্ধান পাঠান
Product Details ofটাংস্টেন রাউন্ড স্পুটারিং টার্গেট

টাংস্টেন রাউন্ড স্পুটারিং টার্গেট বর্ণনা এবং অ্যাপ্লিকেশন

লক্ষ্য হল ম্যাগনেট্রন স্পটারিং প্রযুক্তির জন্য অপরিহার্য উপকরণগুলির মধ্যে একটি, এবং লক্ষ্যের কর্মক্ষমতা কমবেশি জমা ফিল্মের কর্মক্ষমতা এবং গুণমান নির্ধারণ করে। টংস্টেন রাউন্ড স্পুটারিং টার্গেটের সমস্ত ধাতব উপাদানগুলির মধ্যে সর্বোচ্চ গলনাঙ্ক রয়েছে এবং উচ্চ ঘনত্ব, উচ্চ বিশুদ্ধতা, অভিন্ন অভ্যন্তরীণ কাঠামো, ভাল উচ্চ তাপমাত্রার স্থিতিশীলতা, ইলেক্ট্রন স্থানান্তর করার শক্তিশালী প্রতিরোধ, শক্তিশালী জারা প্রতিরোধ এবং দীর্ঘ পরিষেবা জীবন এর সুবিধা রয়েছে। টংস্টেন রাউন্ড স্পুটারিং টার্গেট সাধারণত ভ্যাকুয়াম গলে যাওয়া এবং গরম চাপ দিয়ে উত্পাদিত হয়, তারপরে রোলিং, কাটিং এবং অ্যানিলিং করা হয়। এটি ইলেকট্রনিক্স শিল্প এবং সৌর শক্তি শিল্পে সবচেয়ে বেশি ব্যবহৃত হয়। আমাদের কোম্পানির দ্বারা উত্পাদিত টাংস্টেন রাউন্ড স্পুটারিং লক্ষ্যগুলি প্লাজমা স্পাটারিং, মহাকাশ, পেট্রোকেমিক্যাল, সেমিকন্ডাক্টর গ্লাস লেপ, নির্মাণ এবং অপটিক্যাল তথ্য স্টোরেজ স্পেস শিল্পে ব্যবহার করা যেতে পারে।


টাংস্টেন রাউন্ড স্পুটারিং টার্গেটস্পেসিফিকেশন:

উপাদান

টংস্টেন

বিশুদ্ধতা

99৷{1}}.999 শতাংশ৷

আকার

Φ1 মিমি-300মিমি

পুরুত্ব

10মিমি-450মিমি

ঘনত্ব

19.35 গ্রাম/সেমি3

গলনাঙ্ক

3410 ডিগ্রী

পৃষ্ঠতল

মিলিং, গ্রাইন্ডিং, কালো, উজ্জ্বল পালিশ

ডেলিভারি সময়

15-20 দিন

স্ট্যান্ডার্ড

ASTM B760-86,GB 3875-83,ANSI

সার্টিফিকেশন

ISO-9001


টাংস্টেন রাউন্ড স্পুটারিং টার্গেট ছবি:

Tungsten Sputtering Target

Tungsten Round Sputtering Targets

গরম ট্যাগ: টংস্টেন রাউন্ড স্পুটারিং লক্ষ্য, সরবরাহকারী, নির্মাতারা, কারখানা, কাস্টমাইজড, পাইকারি, মূল্য, উদ্ধৃতি, বিক্রয়ের জন্য

অনুসন্ধান পাঠান

(0/10)

clearall